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NANO 15臭氧發(fā)生器用ALD（原子層沉積）系統(tǒng)
來源：www.mytunesplus.com 發(fā)布時(shí)間：2024-11-07 瀏覽次數(shù)：
NANO 15臭氧發(fā)生器用ALD（原子層沉積）系統(tǒng)
NANO 15臭氧發(fā)生器用ALD（原子層沉積）系統(tǒng)
ALD（原子層沉積）系統(tǒng)中使用臭氧發(fā)生器的配置通常是為了生成高純度的臭氧氣體，用于特定的化學(xué)反應(yīng)，特別是在需要氧源的沉積過程中。以下是一個(gè)典型的ALD系統(tǒng)中臭氧發(fā)生器的配置介紹：
1. NANO15臭氧發(fā)生器
板式臭氧發(fā)生器：通過電暈放電過程將氧氣轉(zhuǎn)換為臭氧，適用于需要大量臭氧的場(chǎng)合。臭氧濃度可達(dá)10%。體積小，適合集成在機(jī)器內(nèi)。
2. 配置組件
   臭氧發(fā)生器主體：負(fù)責(zé)生成臭氧的核心設(shè)備。
   氧氣源：通常使用高純度氧氣作為原料（純度通常為99.99%以上）。
   冷卻系統(tǒng)：用于冷卻臭氧發(fā)生器，防止設(shè)備過熱。
   臭氧濃度監(jiān)測(cè)器：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)生成的臭氧濃度，確保其符合ALD系統(tǒng)的要求。
   流量控制器：控制進(jìn)入ALD系統(tǒng)的臭氧流量，保持穩(wěn)定的反應(yīng)環(huán)境。
3. 連接與集成
   氣體管道：將生成的臭氧從發(fā)生器輸送到ALD反應(yīng)室。
   真空系統(tǒng)：確保ALD反應(yīng)室內(nèi)的壓力環(huán)境適合臭氧的引入。
   控制系統(tǒng)：集成在ALD系統(tǒng)的整體控制系統(tǒng)中，協(xié)調(diào)臭氧發(fā)生器與其他設(shè)備的工作。
通過上述配置，ALD系統(tǒng)能夠高效、安全地利用臭氧進(jìn)行沉積過程，確保生成的高質(zhì)量薄膜滿足特定應(yīng)用的需求。