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JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)簡(jiǎn)介UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程，其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解，臭氧經(jīng)253.7nm分解，同時(shí)生成原子氧。253.7nm輻射被大多數(shù)碳?xì)浠衔锖统粞跷?。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應(yīng)，形成更簡(jiǎn)單的揮發(fā)性分子，從表面解吸。因此，當(dāng)兩種波長同時(shí)存在時(shí)，原子氧不斷產(chǎn)生，臭氧不斷形成和破壞。通過將適當(dāng)?shù)念A(yù)清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi)，例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈，可以在不到一分鐘的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外，該工藝不會(huì)損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結(jié)構(gòu)。ufo - cleaner®是去除硅，砷化鎵，石英，藍(lán)寶石，玻璃，云母，陶瓷，金屬和導(dǎo)電聚酰亞胺水泥中的有機(jī)污染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長，維護(hù)成本低，服務(wù)無故障。應(yīng)用程序:•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導(dǎo)子組件和GaAs晶圓的清洗•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機(jī)材料•增強(qiáng)GaAs和Si的氧化鈍化表面•減少玻璃的放氣去除晶圓膠帶•提高涂料對(duì)塑料的附著力•測(cè)試后從晶圓上去除油墨•剝離光刻膠•從光刻板中去除潛在圖像•清洗光刻版•在硅片上生長氧化層•在包裝/粘合前清洗電路板•增加表面親水特性•生物科學(xué)應(yīng)用的清洗和滅菌•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡紫外清洗優(yōu)點(diǎn)1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。2. 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。可選設(shè)備：所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制?？赡苄枰Ц额~外費(fèi)用。設(shè)備提供以下電源配置：120V/60Hz 220V/50Hz220V/60Hz100V 50/60Hz**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會(huì)極大地影響清潔速率。
Outer DimensionsLength Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray DimensionsWidth Length Height (Adjustment Range)165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid LampType Average Intensity Distance Measured Away From LampLow Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical CharacteristicsOutput PowerVoltage Current6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power RequirementsModel Voltage Frequency Current42 120 VAC 60 Hz 2.0 A42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
與UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)
Q：膜接觸電催化臭氧氧化工藝構(gòu)建
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Q：如何提高臭氧在水中溶解度
A：臭氧以兩種主要方法轉(zhuǎn)化為水，氣泡消脂和文丘里注射器。 兩種方法目標(biāo)都是相同的，將臭氧；
Q：高效穩(wěn)定的協(xié)同除污染，自清潔N-rGO催化臭氧膜
A：背景介紹 非均相臭氧氧化技術(shù)的快速發(fā)展為飲用水和廢水中多種污染物的去除奠定了道路，例；
Q：Mn-Ce臭氧催化氧化催化劑的制備及其對(duì)煤化工廢水的處理
A：摘 要 以活性氧化鋁小球?yàn)檩d體,Mn/Ce雙金屬為活性組分,通過共沉淀法制備得到活性氧化鋁基催；
Q：處理高COD、高含鹽、難生化的金剛烷胺制藥廢水實(shí)驗(yàn)方法
A：處理高 COD、高含鹽、難生化的金剛烷胺制藥廢水實(shí)驗(yàn)方法 金剛烷胺是近年來廣泛使用的抗流感；
Q：臭氧催化氧化對(duì)固定床蒸氨脫酚廢水COD去除效果研究
A：0 引 言 固定床氣化技術(shù)成熟、投資低且甲烷產(chǎn)量高，使其成為天然氣制備的主要技術(shù)，但也產(chǎn)；
Q：臭氧催化氧化技術(shù)在煤化工含鹽廢水深度處理中的應(yīng)用
A：臭氧催化氧化技術(shù)在煤化工含鹽廢水深度處理中的應(yīng)用 背景 在我國富煤少油的能源結(jié)構(gòu)背景下；
Q：逆流萃取+臭氧氧化聯(lián)合工藝處理油基巖屑效果研究
A：逆流萃取+臭氧氧化聯(lián)合工藝處理油基巖屑效果研究 為解決頁巖氣開采過程中產(chǎn)生的油基巖屑的；
Q：臭氧氧化法對(duì)顏料廢水中苯胺的深度降解研究
A：臭氧氧化法對(duì)顏料廢水中苯胺的深度降解研究 顏料廢水由母液和沖洗液組成，其特點(diǎn)是高色度；
Q：臭氧催化氧化對(duì)垃圾滲濾液水質(zhì)的影響
A：臭氧催化氧化對(duì)垃圾滲濾液水質(zhì)的影響 垃圾滲濾液是一種高濃度、難降解廢水, 污染物成分復(fù)；
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